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    原位XPS(In-Situ XPS)

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    原位電化學(xué)拉曼

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    原位掃描電子顯微鏡(in-situ-SEM)

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    原位拉曼

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    原位透射電鏡(in-situ TEM)

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    常見問(wèn)題

    Q&A

    Q:到底是發(fā)論文還是申請(qǐng)專利?
    A:論文和專利都是技術(shù)的載體,論文審稿側(cè)重考察數(shù)據(jù)是否可靠、結(jié)論是否準(zhǔn)確,發(fā)明專利會(huì)經(jīng)過(guò)新穎性或創(chuàng)造性的審查,授權(quán)后獲得獨(dú)占權(quán)而受到法律保護(hù),自己在先公開的論文會(huì)導(dǎo)致在后申請(qǐng)的專利失去新穎性或創(chuàng)造性,對(duì)于同一方案務(wù)必先申請(qǐng)專利再發(fā)表論文。
    Q:專利申請(qǐng)為什么要趁早?
    A:1.要防止創(chuàng)意或產(chǎn)品推出前被模仿。2.相關(guān)技術(shù)更新迭代、層出不窮,慢一步就會(huì)導(dǎo)致他人先公開自己的創(chuàng)意而無(wú)法獲得專利權(quán)。3.專利可以在升學(xué)評(píng)獎(jiǎng)、職稱考核、高企認(rèn)定等過(guò)程中添加砝碼,競(jìng)爭(zhēng)激烈,提早準(zhǔn)備更容易命中目標(biāo)。
    Q:哪些不能申請(qǐng)專利?
    A:1. 科學(xué)發(fā)現(xiàn);3. 疾病的診斷和治療方法;4. 動(dòng)物和植物品種;5. 用原子核變換方法獲得的物質(zhì);6. 對(duì)平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標(biāo)識(shí)作用的設(shè)計(jì)。
    Q:發(fā)明和實(shí)用新型有何區(qū)別?
    A:1.保護(hù)客體不同,發(fā)明專利保護(hù)產(chǎn)品、方法或者改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案,實(shí)用新型專利只保護(hù)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。2.審批程序不同,發(fā)明專利需要經(jīng)過(guò)實(shí)質(zhì)審查以確定滿足新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性,審查時(shí)間更長(zhǎng),實(shí)用新型不需要經(jīng)過(guò)實(shí)質(zhì)審查,創(chuàng)造性和技術(shù)水平較發(fā)明專利低,但實(shí)用價(jià)值大。3.保護(hù)期限不同,發(fā)明專利權(quán)的期限為二十年,實(shí)用新型專利權(quán)的期限為十年,外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)的期限為十五年,均自申請(qǐng)日起計(jì)算。
    Q:什么是技術(shù)交底書?
    A:技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理師溝通的基礎(chǔ),應(yīng)當(dāng)涵蓋現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題是什么,發(fā)明人提出了什么樣的解決方案,達(dá)到了何種效果,以及希望保護(hù)的核心技術(shù)要點(diǎn)是什么,應(yīng)當(dāng)盡可能記錄技術(shù)內(nèi)容,充分描述技術(shù)細(xì)節(jié),提供有力的證明材料,如此才能撰寫更高質(zhì)量的專利。
    Q:如何才能更快獲得發(fā)明專利授權(quán)?
    A:1.優(yōu)先審查,涉及特定的高端制造、節(jié)能環(huán)保、新材料、新能源等特殊領(lǐng)域,可以申請(qǐng)優(yōu)先審查,最快可在6-8個(gè)月獲得發(fā)明專利授權(quán)。2.通過(guò)保護(hù)中心的預(yù)審加快審查,進(jìn)入快速審查通道,可進(jìn)一步壓縮授權(quán)時(shí)間。
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